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NIH 资助团队构建胎盘芯片，揭示镉对胎盘屏障的损伤与 BCRP 防御机制
How does environmental pollution affect fetal development?
AI 导读
美国国立卫生研究院（NIH）资助的宾夕法尼亚大学团队构建了胎盘芯片，用它模拟孕期接触有毒金属镉的过程，发现镉在 24 小时内即可到达胎儿侧，且跨膜量随剂量变化。
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来源：NIH · x.com
NIH 资助团队构建胎盘芯片，揭示镉对胎盘屏障的损伤与 BCRP 防御机制