NIH资助团队用胎盘芯片揭示镉暴露风险

NIH 资助的宾夕法尼亚大学生物工程团队构建了胎盘芯片，用它模拟孕期接触有毒金属镉的过程，发现镉在 24 小时内即可到达胎儿侧，且跨膜量随剂量变化。 该芯片使用分娩后采集的人胎盘原代细胞，在微流控芯片中培养，以再现胎盘连接母体与胎儿的屏障功能。研究团队称，在测试的每个浓度下，镉都在 24 小时内到达胎儿侧，但跨膜量取决于剂量。 团队表示，下一步将继续改进模型、探索胎盘毒理学，目标是最终开发临床生物标志物，用于评估和预测孕期环境物质的胎盘毒性。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。